Halbton-Phasenverschiebungsmasken-Rohling und Halbton-Phasenverschiebungsmaske

Abstract

Halbton-Phasenverschiebungsmasken-Rohling für Halbton-Phasenverschiebungsmasken, die auf einem transparenten Substrat einen lichtdurchlässigen Teil, der Belichtungslicht transmittiert, und einen Phasenverschiebungsteil aufweisen, der einen Teil des Belichtungslichts transmittiert und die Phase des transmittierten Lichts in einem vorherbestimmten Ausmaß verschiebt, wobei der Maskenrohling einen Phasenverschiebungsfilm aufweist, der den Phasenverschiebungsteil auf dem transparenten Substrat bildet, dadurch gekennzeichnet, dass der Phasenverschiebungsfilm aus zwei Schichten aufgebaut ist, einer niedrigdurchlässigen Schicht und einer hochdurchlässigen Schicht, die einen kleineren Extinktionskoeffizenten aufweist als die niedrigdurchlässige Schicht und auf der niedrigdurchlässigen Schicht angeordnet ist, die hochdurchlässige Schicht SiO x N y aufweist, der Extinktionskoeffizient K 1 der niedrigdurchlässigen Schicht und der Extinktionskoeffizient K 2 der hochdurchlässigen Schicht die Bedingungen K 2 < K 1 ≤ 3,0 bei einer Belichtungswellenlänge λ im Bereich von 140–200 nm erfüllen, und die Dicke d 1 (nm) der niedrigdurchlässigen Schicht die Bedingung 0,001 ≤ K 1 d 1 /λ ≤ 0,500 bei der Belichtungswellenlänge λ erfüllt.

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    Patent Citations (5)

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    NO-Patent Citations (1)

      Title
      Bergmann, Ludwig; Schäfer, Clemens: Lehrbuch der Experimentalphysik. Bd. 3, Optik. 8. Auflage. Berlin, New York : de Gruyter, 1987. S. 262-268. Kapitel 2.6. - ISBN 3-113010882-8

    Cited By (0)

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